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中国在极紫外光源（EUV）技术上取得了重要进展，尤其是LDP光源的研发。EUV光源是半导体制造中关键的技术，能够支持5nm及以下制程的芯片生产。LDP光源结合了激光和放电技术，具有较高的能量效率和较低的成本潜力，理论上能够实现自主可控的EUV光源。尽管LDP在功率和分辨率上可能稍逊于LPP，但其未来的商业化量产仍然充满希望，特别是在解决碎屑控制等问题后。